FTO 전도성 유리 기판
2024년 12월 3일
FTO는 불소 도핑 주석 이산화물(Fluorine Doped Tin Dioxide)의 약자로, 높은 전도성과 투명성을 갖춘 N형 반도체 소재입니다. 뛰어난 광전자 특성으로 인해 FTO 유리 태양 전지, 광전 센서, 터치스크린 등의 분야에 널리 사용됩니다.
Fto 유리 데이터시트
| Fto 코팅 유리 ( 유리 두께 : 1.6 mm ), ( 저항률 : ~10 ohms/sq ) | |||
| 제품 코드 | 치수(mm) | 표면 저항률 | 투과율(%) |
| TBFT001 | 25mm × 25mm × 1.6mm | ~10옴/제곱 | >79 |
| TBFT002 | 50mm × 25mm × 1.6mm | ~10옴/제곱 | >79 |
| TBFT003 | 75mm × 25mm × 1.6mm | ~10옴/제곱 | >79 |
| TBFT004 | 50mm × 50mm × 1.6mm | ~10옴/제곱 | >79 |
| TBFT005 | 100mm × 100mm × 1.6mm | ~10옴/제곱 | >79 |
| FTO 코팅 유리(유리 두께: 2.2mm), (저항률: ~7 ohms/sq) | |||
| 제품 코드 | 길이 x 너비 | 표면 저항률 | 투과율(%) |
| TBFTZ001 | 25mm × 25mm × 2.2mm | ~7옴/제곱 | >85 |
| TBFTZ002 | 50mm × 25mm × 2.2mm | ~7옴/제곱 | >85 |
| TBFTZ003 | 75mm × 25mm × 2.2mm | ~7옴/제곱 | >85 |
| TBFTZ004 | 50mm × 50mm × 2.2mm | ~7옴/제곱 | >85 |
| TBFTZ005 | 100mm × 100mm × 2.2mm | ~7옴/제곱 | >85 |
| FTO 코팅 유리(유리 두께: 2.2mm), (저항률: ~15 ohms/sq) | |||
| 제품 코드 | 길이 x 너비 | 표면 저항률 | 투과율(%) |
| TBFTY001 | 25mm × 25mm × 2.2mm | ~15옴/제곱 | >85 |
| TBFTY002 | 50mm × 25mm × 2.2mm | ~15옴/제곱 | >85 |
| TBFTY003 | 75mm × 25mm × 2.2mm | ~15옴/제곱 | >85 |
| TBFTY004 | 50mm × 50mm × 2.2mm | ~15옴/제곱 | >85 |
| TBFTY005 | 100mm × 100mm × 2.2mm | ~15옴/제곱 | >85 |
FTO 코팅 유리의 화학식은 F:SnO₂입니다. FTO 또는 "불소 도핑 산화주석" 유리는 TCO(투명 전도성 산화물) 유리 분야에 속합니다. 기본적으로 기능성 전도성 유리 제품입니다. 당사의 FTO 코팅 전도성 유리는 우수한 열 안정성, 내후성, 높은 전도성, 높은 광 투과율, 낮은 방사율, 우수한 화학적 안정성 및 기계적 강도를 가지고 있습니다.
FTO 코팅 유리 기판은 내열성 및 내화학성이 뛰어나 대기 조건에서 열적, 화학적으로 안정적입니다. FTO 유리 커버슬립은 고온 처리에 강합니다. FTO 유리 기판의 최대 작동 온도는 650°C입니다. 다른 전도성 유리에 비해 높은 성능과 비용 효율성을 제공합니다.
FTO 코팅은 한 면에만 적용되며, 다른 면은 단열 처리됩니다. 플로트 유리 또는 투명 소다석회 유리에 FTO 필름을 코팅하는 데는 분무 열분해가 사용됩니다. FTO 코팅 유리는 크기와 면저항에 따라 다양한 종류가 있습니다. 주요 제품은 1.1mm, 1.6mm, 2.2mm, 2.3mm, 3mm, 3.2mm 두께로 제공되며, 표면 저항은 7Ω/sq에서 100Ω/sq 인치입니다. FTO 필름층의 두께는 원하는 표면 저항에 따라 달라지며, 일반적으로 50nm에서 200nm 사이입니다. 저희는 최대 405mm x 355mm(16인치 x 14인치) 크기의 FTO 코팅 유리판을 생산합니다. 일반적으로 사용되는 크기는 50mm x 50mm, 75mm x 75mm, 100mm x 100mm, 300mm x 300mm입니다. 물론 다른 크기도 맞춤 제작 가능합니다. 저희 FTO 코팅 유리 기판은 550nm에서 82%~85%의 투과율을 달성하며, 헤이즈는 2% 미만이고 표면 거칠기는 RMS 1~10nm입니다. 또한, 맞춤형 레이저 에칭 패턴도 제공합니다.
( 낮은 투과율 문제를 해결하고 시장 수요에 대응하기 위해, 우리 회사가 출시되었습니다 AR 코팅이 적용된 새로운 FTO 전도성 유리 4개2025년 2월.)
( 낮은 투과율 문제를 해결하고 시장 수요에 대응하기 위해, 우리 회사가 출시되었습니다 AR 코팅이 적용된 새로운 FTO 전도성 유리 4개2025년 2월.)
FTO 코팅 유리 응용 분야
FTO(불소 도핑 주석 산화물) 코팅 유리는 하이브리드, 유기 및 염료 감응형 태양 전지뿐만 아니라 태양광 발전, 투명 전극, 터치스크린, 디스플레이 기술, 스마트 유리, 광전자 공학, 에너지 절약형 창문, 적외선 감지, 커패시터, 전기화학 증착 등 다양한 분야에 사용되는 전도성 유리입니다. FTO 유리는 뛰어난 태양광 특성으로 연구자들의 관심을 받고 있으며, 실험실, 연구 기관 등에서도 사용되고 있습니다.
FTO 코팅 유리의 장점
①투명성: FTO 유리는 특히 가시광선과 근자외선 영역에서 뛰어난 광학적 투명성을 가지고 있어 태양광 및 광전자 디스플레이 응용 분야에 중요합니다.
② 전도성: FTO 유리는 높은 전기 전도성을 가지고 있어 전자 장치 및 회로의 광범위한 응용 분야에 유용합니다.
③ 안정성: FTO 유리는 우수한 화학적, 열적 안정성을 가지고 있어 다양한 환경 조건에서도 그 특성을 유지할 수 있습니다.
④ 접근성이 용이합니다. FTO 유리는 생산이 비교적 간단하고 비용이 저렴하여 대규모 상업적 용도로 사용할 수 있습니다.
FTO는 투명 전도성 필름으로서 ITO의 대안으로 많은 주목을 받고 있습니다. FTO는 희귀 금속인 인듐을 사용하지 않고도 우수한 내열성, 높은 투명성, 우수한 전도성, 그리고 저렴한 비용 등의 장점을 가지고 있습니다.
FTO 유리는 어떻게 만들어지는가
FTO 유리는 전자, 태양광 발전, 기타 분야에서 중요한 소재로 자리 잡았습니다. 그렇다면 이 놀라운 FTO 유리는 어떻게 제조될까요? FTO 유리 제조 공정에서는 불소 함량을 조절하여 전도도와 광투과도를 조절할 수 있습니다. 반면, 에칭 기술은 물리적 또는 화학적 방법을 통해 FTO 유리 표면에서 하나 이상의 층을 제거하여 표면 특성을 변화시키는 기술입니다.
FTO 유리 생산 공정은 주로 다음 단계로 구성됩니다.
1. 배칭: FTO 유리의 조성 요건에 따라 SnO₂, Sb₂O₃, ZnO 등 고순도 원료를 선별하여 일정 비율로 혼합합니다. 배합 과정에서 모든 원료가 완전히 혼합되어 최종 제품의 성능 안정성을 보장합니다.
2. 용융: 적합한 원료를 고온로에 넣어 용융합니다. 용융 온도는 일반적으로 1500℃ 이상이며, 다양한 원료가 완전히 용융되어 균질한 용융물을 형성할 수 있도록 일정 시간을 유지해야 합니다. 용융 과정에서는 불순물 유입 및 용융물 산화를 방지하기 위해 온도와 분위기를 엄격하게 제어해야 합니다.
3. 성형: 용융된 용융물을 성형하는 공정입니다. 성형 방법에는 플로팅법, 압연법, 연신법 등 다양한 방법이 있습니다. 그중 플로팅법은 FTO 유리 생산에 가장 일반적으로 사용되는 공정으로, 용융물을 주석 탱크 내 주석 용액 표면에 띄운 후 온도와 속도를 조절하여 서서히 냉각시켜 성형하는 원리입니다. 성형 과정에서 용융물의 평탄도와 두께 균일도는 후속 공정의 요구 사항을 충족해야 합니다.
4. 열처리: 성형된 FTO 유리는 내부 응력을 제거하고 제품 성능을 향상시키기 위해 열처리됩니다. 열처리 방법에는 어닐링, 강화, 담금질 등이 있습니다. 제품의 성능 요구 사항 및 가공 기술에 따라 열처리 방법을 선택해야 합니다. 열처리 공정의 온도와 시간은 제품 변형 및 성능 저하를 방지하기 위해 엄격하게 관리되어야 합니다.
5. 절단 및 연삭: 열처리된 FTO 유리는 실제 적용 요건에 맞춰 절단 및 연삭됩니다. 절단 방식에는 레이저 절단, 워터젯 절단 등이 있으며, 이를 통해 필요한 크기와 모양을 정확하게 절단할 수 있습니다. 에지 연삭 처리는 절단면의 버(burr)와 균열을 제거하여 제품의 안전성과 미관을 향상시킵니다.
6. 표면 처리: FTO 유리의 전도성 및 오염 방지 성능을 향상시키기 위해서는 일반적으로 표면 처리가 필요합니다. 표면 처리 방법에는 양극 산화 처리, 화학 코팅, 진공 증착 등이 있습니다. 이러한 방법을 통해 필름의 FTO 유리 표면에 전도성 및 오염 방지 성능을 갖는 층을 형성하여 제품의 전반적인 성능을 향상시킬 수 있습니다.
ITO와 FTO의 차이점은 아래 표에 요약되어 있습니다.
| ITO 유리 | FTO 유리 | |
| 내열성 | 기본적으로는 그렇지 않습니다. | 매우 좋은 |
| 전도도(비저항값: Ωcm) | 1.8 x 10-4 | 8.5 x 10-4 |
| 투명성(빛 투과율) | 96% | 87% |
| 표면 | 매끄러운 | 미세한 융기 |
FTO와 ITO의 주요 차이점은 내열성입니다. 300°C 이상의 소결 온도에서 ITO의 전도도(비저항)가 매우 높아져 투명 전도성 필름으로서의 성능이 저하되는 반면, FTO는 이러한 문제가 전혀 없습니다.
이러한 이유로 염료감응형 및 수은 태양전지의 전자전달층은 최대 500°C의 온도에서 다공성 TiO2 층을 소결해야 합니다. 따라서 내열성이 우수한 FTO가 자주 사용됩니다.
또한 FTO의 전기 전도도를 높이기 위해서는 사용 시 충분한 두께를 확보해야 하므로 ITO에 비해 투명도가 떨어지는 단점이 있다.
더욱이 FTO는 표면이 약간 울퉁불퉁하여 기판을 통과할 때 빛이 산란되어 투과율이 낮아집니다. 따라서 액정 디스플레이에 필요한 빛의 투과율을 높이는 기판을 고려해야 하며, 유기 발광 재료가 선호됩니다.
ITO와 FTO 유리의 차이점을 더 알고 싶으신가요?
ITO와 FTO 유리의 차이점을 더 알고 싶으신가요?
FTO 유리를 청소하는 방법?
FTO 유리 표면의 오염 물질은 사용 중 전기 전도도에 심각한 영향을 미칠 수 있습니다. 따라서 FTO 유리를 효과적으로 세척하고 양호한 전도도를 유지하는 방법은 티보(Tibbo) 연구의 중요한 과제입니다.
먼저, FTO 유리의 전도성 메커니즘을 이해해야 합니다. FTO 유리의 전도성은 주로 내부 자유 전자와 정공에 의해 결정됩니다. 빛이 FTO 유리 표면에 닿으면 광자가 흡수되어 전자-정공 쌍을 여기시킵니다. 이 전자-정공 쌍은 전기장의 작용 하에서 자유롭게 이동하여 전류를 형성합니다. 따라서 FTO 유리의 전기 전도성은 표면의 청결도와 밀접한 관련이 있습니다.
FTO 유리 세척 과정에서는 다음 사항에 주의해야 합니다.
1. 세척제 선택: FTO 유리에 적합한 세척제를 선택하는 것은 세척 효과를 보장하는 핵심 요소입니다. 일반적으로 FTO 유리는 부식성이 없고 친환경적인 세척제를 선택해야 합니다. 일반적으로 사용되는 세척제로는 알코올, 아세톤, 탈이온수 등이 있습니다.
2. 세척 방법 선택: FTO 유리 세척 방법에는 주로 초음파 세척, 침지 세척, 브러싱 세척 등이 있습니다. 그중 초음파 세척은 FTO 유리 표면의 기름때와 먼지를 효과적으로 제거하는 더욱 효율적인 세척 방법입니다. 침지 세척은 넓은 면적의 FTO 유리 세척에 적합하며, 브러싱 세척은 오염이 심한 국소적인 FTO 유리 세척에 적합합니다.
3. 세척 후 처리: 세척 후 FTO 유리는 건조하여 표면에 습기가 남아 전도성에 영향을 미치지 않도록 해야 합니다. 동시에 광학 검사를 수행하여 세척된 FTO 유리 표면에 흠집이나 결함이 없는지 확인해야 합니다.
4. 세척 빈도 관리: FTO 유리 세척 빈도는 사용 환경 및 오염 정도에 따라 조절해야 합니다. 일반적으로 FTO 유리를 자주 사용하는 경우 정기적으로 세척해야 하며, 자주 사용하지 않는 경우 세척 주기를 적절히 연장할 수 있습니다.
티보 글래스는 20년 이상 강화 유리 생산을 전문으로 해왔으며, 최대 IK08/09/10의 강화 등급을 제공합니다. 전기 및 전자 유리, 디스플레이 커버 유리, AG 유리, AR 글래스, AF 코팅 유리, ITO 코팅 유리에스, FTO 전도성 유리 기타 문의 사항도 환영합니다. 궁금한 점이 있으시면 언제든지 문의해 주세요.