0102030405
زجاج مطلي بـ ITO | زجاج موصل بـ ITO
2024-11-02
هذا الزجاج المطلي زجاج أكسيد الإنديوم والقصدير (ITO) (المعروف أيضًا باسم الزجاج المغلف بأكسيد الإنديوم والقصدير)، وهو نوع من زجاج الأكسيد الشفاف والموصل (زجاج موصل TCO). نظرًا لمزاياه المتمثلة في مقاومة الصفائح المنخفضة والنفاذية العالية، فقد تم استخدام زجاج ITO على نطاق واسع في البحث والتطوير والمختبرات ومعهد الأبحاث وشاشات العرض السائلة والخلايا الشمسية غير العضوية وغير العضوية والأجهزة الكهروضوئية الأخرى.
| زجاج مطلي بأكسيد الإنديوم والقصدير (حجم الزجاج: 50 × 50 مم، 300 × 300 مم)، (المقاومة: 3 ~ 100 أوم/متر مربع) | |||
| 1 | 50*50 مم | 1.1 ملم | 3 أوم/م²~100 أوم/م² |
| 2 | 300*300 مم | 3 مم | 4~6 أوم/م² و3~5 أوم/م² |
| 3 | 300*300 مم | 4 مم | 25 أوم/متر مربع |
| 4 | 50*50 مم | 0.4/0.5/0.7/0.8/1.0/1.5/1.8/2 مم | 7~10 أوم/متر مربع |
| زجاج مطلي بأكسيد القصدير الإنديوم (سمك الزجاج: 0.55 مم، 0.7 مم، 1.1 مم)، (المقاومة: 4~500 أوم/م²) | |||||
| اسم المنتج | أبعاد | سماكة | مقاومة | هذا الفيلم الرقيق | النفاذية |
| هذا الزجاج | 10 × 10 مم 20 × 20 مم 25 × 25 مم 1 بوصة × 1 بوصة 50 × 50 مم 25 × 75 مم 1 بوصة × 3 بوصة 100 × 100 مم 300 × 300 مم | 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 4~5 أوم/م2 | 260 نانومتر | >83% |
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 6~8 أوم/م2 | 185 نانومتر | >84% | ||
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 10~15 أوم/م2 | 135nm | >86% | ||
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 15~20 أوم/م2 | 95nm | >85% | ||
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 20~30 أوم/م2 | 65nm | >80% | ||
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 30~40 أوم/م2 | 50 نانومتر | >82% | ||
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 40~60 أوم/م2 | 35nm | >85% | ||
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 60~80 أوم/م2 | 30 نانومتر | >86% | ||
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 80~100 أوم/م2 | 23nm | >87% | ||
| 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم | 300~500 أوم/متر مربع | 13 نانومتر | >88% | ||
وصف الزجاج المطلي بـ ITO
يُصنع زجاج أكسيد قصدير الإنديوم الموصل، المعروف أيضًا باسم زجاج مطلي بـ ITO، عن طريق طلاء طبقة من أكسيد قصدير الإنديوم على زجاج ركيزة قائم على الصودا والجير أو السيليكون والبورون عند درجة حرارة حوالي 300 درجة مئوية باستخدام تقنية الرش المغناطيسي. تتميز طبقة أكسيد قصدير الإنديوم على الزجاج بأنها رقيقة وموحدة، مما يمنحه موصلية جيدة ونفاذية عالية. زجاج ITO مادة شبه موصلة من النوع N، والصيغة الكيميائية لطبقة الأكسيد على سطح الزجاج هي Sn:In2O3.
تصنيفات زجاج ITO
هذا زجاج موصل يتم تقسيمها إلى زجاج عالي المقاومة (مقاومة بين 150 و 500 أوم)، وزجاج عادي (مقاومة بين 60 و 150 أوم)، وزجاج منخفض المقاومة (مقاومة أقل من 60 أوم) وفقًا للمقاومة.
يمكن تقسيم زجاج إيثانول أمين (ITO) الموصل إلى 14 بوصة × 14 بوصة، 14 بوصة × 16 بوصة، 20 بوصة × 24 بوصة، ومواصفات أخرى حسب الحجم. كما يمكن تقسيمه إلى 2.0 مم، 1.1 مم، 0.7 مم، 0.55 مم، 0.4 مم، 0.3 مم، ومواصفات أخرى حسب السُمك. يُستخدم السُمك الأقل من 0.5 مم بشكل رئيسي في منتجات شاشات الكريستال السائل STN.
علاوة على ذلك، يتم تقسيم الزجاج الموصل ITO إلى زجاج مصقول وزجاج عادي وفقًا للتسطح.
حجم زجاج ITO وسمكه ومقاومته
المقاس: 10 × 10 مم، 20 × 20 مم، 25 × 25 مم، 1 بوصة × 1 بوصة، 50 × 50 مم، 25 × 75 مم، 1 بوصة × 3 بوصة، 100 × 100 مم، 300 × 300 مم
السُمك: 0.2، 0.3، 0.4، 0.5، 0.55، 0.7، 0.8، 0.9، 1.0، 1.1، 1.2، 1.5، 1.8، 2.0، 3.0 مم وما إلى ذلك.
المقاومة: 3-4 أوم/م²، 4-6 أوم/م²، 5-7 أوم/م²، 7-10 أوم/م²، 10-15 أوم/م²، 15-20 أوم/م²، 20-30 أوم/م²، 30-40 أوم/م²، 40-60 أوم/م²، 70-120 أوم/م² أو غيرها
تطبيقات الزجاج المطلي بـ ITO
يستخدم زجاج ITO الموصل على نطاق واسع في إنتاج وبحث وتطوير الأجهزة الكهروكيميائية (مثل شاشات الكهروكيميائية، والملصقات الكهروكيميائية، والزجاج الكهروكيميائي، ومرايا الرؤية الخلفية الكهروكيميائية، وما إلى ذلك)، وشاشات الكريستال السائل (بما في ذلك شاشات الكمبيوتر، وأجهزة التلفزيون ذات الشاشة المسطحة LCD، وشاشات الهواتف المحمولة، وشاشات الأجهزة المنزلية، وما إلى ذلك)، وشاشات OLED، والخلايا الشمسية العضوية (OPV)، والخلايا الشمسية البيروفسكايت منخفضة الحرارة، والكيمياء الكهربائية، والتجارب الحيوية الكهربائية، وشاشات اللمس، والحماية الكهروستاتيكية، ومكافحة التداخل الإلكتروني، ولوحات الدوائر الشفافة، وغيرها من المجالات.
مزايا زجاج ITO
·دعم مقاومة صفائح ITO المخصصة
·الطلاءات الموصلة والشفافة بصريًا
·مقاومة نوعية منخفضة، مقاومة كهربائية منخفضة
·استقرار بيئي ودرجة حرارة عالية
·موصلية ممتازة وشفافية بصرية
·توحيد الطلاء
·مستقر حراريا وكيميائيا
·القدرة على حماية المجالات الكهرومغناطيسية
·تتراوح المقاومة السطحية المحددة لصفائح الزجاج المطلية بـ ITO في نطاق 10 أوم/م2 إلى 100 أوم لكل م2.
·إن نفاذية الأغطية الزجاجية المصنوعة من أكسيد الإنديوم والقصدير (ITO) عند طول موجي 550 نانومتر أكبر من 85%.
·يبلغ سمك طبقة أو فيلم ITO ما بين 50 نانومتر و200 نانومتر (أي 500Å – 2000Å).
التخزين والاحتياطات اللازمة لزجاج ITO
شروط تخزين زجاج ITO:
·عند الأخذ والوضع، المس الجوانب الأربعة فقط، وليس سطح الزجاج الموصل ITO؛
·تعامل معه بحذر، ولا تصطدم بأجهزة أو آلات أخرى؛
·إذا كنت تريد تخزينه لفترة طويلة، يجب عليك الاهتمام بمقاومة الرطوبة لتجنب التأثير على مقاومة الزجاج ونفاذيته؛
·بالنسبة للزجاج ذو المساحة الكبيرة والشريط الطويل، يجب أن يؤخذ اتجاه تعويم ركيزة الزجاج في الاعتبار عند التصميم والتخطيط.
احتياطات الاستخدام :
·يجب تخزين زجاج إيثانول أمين الموصّل في درجة حرارة الغرفة وجفافه مع رطوبة أقل من 65%. وبالطبع، إذا كنت بحاجة إلى تخزين زجاج إيثانول أمين الموصّل لفترة طويلة، يُنصح بإبقائه في درجة حرارة أقل من 20 درجة مئوية.
·عند التخزين، يجب وضع الزجاج بشكل عمودي (باستثناء اللوائح، فإنه مطلوب عمومًا وضعه بشكل عمودي).
·عند وضعه بشكل مسطح، حاول إبقاء جانب ITO متجهًا لأسفل؛ لا يمكن وضع الزجاج الذي يقل سمكه عن 0.55 مم إلا بشكل عمودي).
·لا يسمح بالتكديس في أي وقت
تنظيف الزجاج المطلي بـ ITO
نحرص في تيبو جلاس على تغليف زجاج إيتو بعناية فائقة لضمان استلامه نظيفًا ومرتبًا دون أي ضرر، وإمكانية استخدامه مباشرةً. مع ذلك، يفضل بعض العملاء تنظيف الزجاج بعد استلامه وقبل استخدامه. لتحقيق هذه الغاية، نقدم الاقتراحات التالية:
1. يمكن تنظيف الجانب غير المطلي مثل الزجاج العادي؛
2. يتم أولاً تنظيف الجانب المطلي بالموجات فوق الصوتية الرطبة (الإيثانول والأسيتون)، والتجفيف بالأشعة تحت الحمراء، ثم التنظيف الجاف (التنظيف باستخدام ضوء الأوزون فوق البنفسجي) لتحسين وظيفة عمل سطح ITO.
اختبار معايير ركائز زجاج ITO
مقاس:
أ. طريقة الاختبار: استخدم مسطرة وفرجارًا لقياس طول وعرض وسمك الزجاج الأصلي الذي سيتم اختباره.
ب. معيار الحكم: تكون نتائج القياس مؤهلة إذا كانت ضمن نطاق المعلمات التي يوفرها المورد.
مقاومة السطح:
أ. طريقة الاختبار: خذ كامل مساحة الزجاج المراد اختباره كمنطقة اختبار، ثم قسّم مساحة الاختبار إلى تسعة أجزاء متساوية واستخدم جهاز اختبار بأربعة مجسات لاختبار مقاومة سطح كل منطقة.
ب. معيار التقييم: احسب متوسط قيمة المقاومة وقيمة تشتت بيانات المقاومة بناءً على نتائج الاختبار. تُعتبر النتيجة مقبولة إذا كانت ضمن النطاق المطلوب.
أداء درجة حرارة طبقة ITO
أ. طريقة الاختبار: قم بتسخين الزجاج الأصلي المراد اختباره في هواء بدرجة حرارة 3000 درجة مئوية لمدة 30 دقيقة، واختبر قيمة مقاومة السطح لنفس النقطة قبل التسخين وبعده.
ب. معيار الحكم: لا ينبغي أن تكون قيمة مقاومة كتلة الفيلم الموصل لـ ITO أكبر من 300% من مقاومة الكتلة الأصلية لتكون مؤهلة.
أداء النقش على ITO:
أ. طريقة الاختبار: ضع الزجاج الأصلي المراد اختباره في محلول الحفر المستخدم في خط الإنتاج لاختبار وقت الحفر الكامل.
ب. معيار الحكم: قيمة وقت الحفر الكامل أقل من نصف الوقت الذي حددته عملية الإنتاج للتأهل.